AzuCloudair

TFT-LCD產業

濕式現址式處理設備

Local Scrubber

  • 氨氣現址式處理設備Ammonia Local Scrubber System
適合處理氨廢氣，應用於MOCVD製程等。DRE≥95%
應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、LED、矽基太陽能電池
 
  • 含粉塵之廢氣局部處理設備 Fine Particle Local Scrubber System
適合處理含粉塵之廢氣、甚至可處理≦1μm粉塵微粒，應用於CVD、Dry etching 乾蝕刻、藍寶石圖案化(PSS)等製程。可處理含有SiH4 、TEOS 、BCl3等廢氣。 DRE≥99%
應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、LED二極體產業等。
 
  • 酸性煙霧白煙/黃煙局部處理設備Acid Fume Local Scrubber System
適合處理酸性煙霧，應用於ITO REWORK、王水調製、發光二極體表面粗化(LBR)、銦球清洗等製程。
對於氫氟酸(HF)、鹽酸(HCl)、硫酸(H2SO4)、硝酸(HNO3)、王水(Aqua Regia)、氯化銨(NH4Cl)及氟化銨(NH4F)處理效率極佳。
應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、LED二極體產業等。
 
  • 含砷廢氣局部尾氣處理設備Arsine Local Scrubber
適合處理砷化氫(AsH3)、磷化氫(PH3)及三氟化硼(BF3)等廢氣，應用於離子植入及磊晶製程等。
應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD及LED二極體產業等。
 
  • 高溫觸媒氧化局部處理設備 High Temperature (Catalyst) Oxidative Local Scrubber System
適合處理含有NH3、N2O、NOx、VOC及異味等其他氣體之含SiH4之廢氣，甚至有固化物(SiO2)、重金屬、硫化物、油滴等，會降低或毒化觸媒壽命的物質，我們都有完整的解決方法做最有效的處理。應用於半導體CVD製程、TFT-LCD產業及矽基歹陽能電池產業的PECVD製程及被動元件PVD製程等。
應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD及LED二極體產業等。
 
  • 異味(催化)氧化濕式洗滌塔Odor Oxidative Local Wet Scrubber System
適合處理異味包含酸酸、硫化氫、甲硫醇、乙硫醇及二甲基硫等，應用於製程排氣及廢水場生物處理所產生的異味。
應用產業：TFT-LCD、紡織產業、橡膠產業
 
  • 氫氟酸濕式洗滌塔HF Local Wet Scrubber System
適合處理中低濃度之HF等特殊廢氣。DRE≥95%。應用於半導體蝕刻、光電產業玻璃薄化等製程。
應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、太陽電電池等產業。

無機酸鹼濕式洗滌塔

Wet Scrubber

．適合處理半導體產業常見的五酸一鹼(HF, HCl, HNO3, H2SO4, H3PO4, NH3)廢氣。
．以金字塔型的結構式填充料，替代傳統拉西環，提昇處理效率，並以全世界最先進的濕膜吸收技術，對於親水性佳的的無機酸鹼物質，即使濃度低，也能達到99%以上的處理效率。
．應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、LED、PCB、橡膠業等。

氮氧化物(NOx)濕式催化氧化處理系統

NOx Wet Catalytic Oxidation Abatement System

．適合處理高濃度硝酸蝕刻金屬或半金屬時所產生的氮氧化物(NOx，黃煙)，如鋁酸蝕刻製程、PV Cell光伏電池製絨製程等。
．氧化劑以無機酸鹽類為主成份，對後端廢水處理不會造成額外負擔。
．應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、矽基太陽能電池、製藥等產業。

氣態分子污染(AMC)處理技術

AirborneMolecularContamination (AMC) Control

．適合用做外氣空調箱(MAU)的AMC控制，適合處理NH3、HF、H2SO4、H3PO4、HNO3等。處理程度可達到潔淨室PPB等級，即使是≦1μm的微粒(fine particles)處理效率也可≥99%。
．以去離子水或市水(city water)做為吸收液，不需添加任何化學藥品，符合環保趨勢。
．應用產業：矽晶圓半導體、 TFT-LCD及生技產業等。

VOC處理系統

VOC Abatement System

VOCs低溫催化氧化爐處理系統Low VOCs Temperature Catalytic Thermal Oxidizer

•適合處理高濃度(≧1000 ppm as CH4)之揮發性有機物質(VOCs) 。
•我們使用奈米級的催化劑，以低溫催化處理VOCs，風量≦100m3/min非常適合以電熱來加熱。
•和濚擁有世界級的電熱加熱技術，可提供客戶穩定且使用壽命長的加熱元件，在正常運轉的狀況下，氧化盧電熱絲使用壽命可超過三年。
•應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、PI膜、化學材料、生物處理等產業。

 

VOCs流體化床+恢復式熱氧化爐處理系統Fluidized Bed +Recuperative Thermal Oxidizer

•適合處理中低濃度或高底沸點混合排放的VOCs。
•吸附效率可達90%甚至到99%，吸附濃縮比率可達50倍以上且運轉時非常節省能源。
•脫附及高溫氧化爐的加熱源以電熱為主，也可選擇天然氣等燃料，加熱的選擇多元。
•應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、廢棄物處理、電線電纜等產業。

 

VOCs冷凝(吸收)回收系統VOCs Condensing (Absorbing) Recovery System

•適合處理親水性高沸點VOCs。
•以雙膜理論基礎，利用空氣中的水氣冷凝，創造全新的冷凝技術，廢氣出口溫度≦30°C，處理效率90%以上，使用經驗已超過百套。
•應用於光阻剝離製程排氣回收、光學薄膜製程高沸點VOCs回收再利用、鋰電池廠正負極溶劑等。高沸點VOCs回收效率≧80%。
•應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、太陽能電池、彩色濾光片等產業。

 

VOCs冷凝(吸收)+有機煙霧處理裝置 VOCs Condensing (Absorbing) +Organic Fume Abatement system

•適合處理親水性高沸點VOCs，對於有機煙霧(PM2.5)的處理效率可達95%甚至99%。
•冷凝吸收器配合有機煙霧集裝置，對於親水性VOCs，冰水的需求在14℃即可且使用量較尋常使用量低，在某些條件下，甚至不需冷凝，而廢氣出口溫度約20~30℃。
•應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、PI膜等產業。

 

VOCs蓄熱式氧化爐處理系統(RTO) Regenerative Thermal Oxidizer

•適合處理中高濃度(≧1,000 ppm as CH4)的VOCs。
•RTO的熱回收效率≧95%，運轉時非常節省能源。
•應用產業：矽晶圓半導體、軟板材料、油墨、橡膠、汽車等產業。

 

VOCs活性碳纖維+低溫催化氧化處理系統  VOCs Active Carbon Fiber + Low Temperature (catalyst )Oxidation treatment System

•適合處理低濃度(≦300 ppm as CH4) 、沸點≦150℃的VOCs
•吸附濃縮比率達15至25倍，且運轉時非常節省能源。
•在正常運轉下，活性碳纖維布使用壽命可超過6個月，甚至超過1年，更換頻率低。
•應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD等產業。

 

VOCs沸石轉輪處理設備 VOCs Zeolite Rotor

•適合處理中低濃度、沸點≦150℃的VOCs。
•吸附濃縮比率達15至40倍，且運轉時非常節省能源。
•筒型(Cylinder Type)的Honey Rotor是全世界唯一可離線(off-line)高溫活化再生的沸石轉輪組件
•應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、軟板材料、化學材料等產業

超低濃度異味處理

Ultra-Low Concentration Odor Treatment

．適合處理超低濃度的臭味(接近嗅味閥值)。
．以高斯函數做氣流擴散模擬。
．避免外氣PPB等級的AMC經由MAU進入無塵室，嚴重影響半導體等所有需無塵室製程產業的良率。
．降低廠房異味對員工及附近居民的生活及健康的影響
．應用產業：矽晶圓半導體、TFT-LCD、LED、化學材料、膠帶、橡膠業等。